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J-GLOBAL ID：200903082657464084

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
宮本 秀俊

About 宮本 秀俊

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白木 真司

About 白木 真司

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勇元 喜次

About 勇元 喜次

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三浦 孝夫

About 三浦 孝夫


Applicant, Patent owner：
日本合成ゴム株式会社

About 日本合成ゴム株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993114202
Publication number (International publication number)：1994308729
Application date： Apr. 19, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 良好な形状を有するレジストパターンを形成しうるとともに、エッチング液に侵されない高い耐酸性と基板に対する高い密着性とを有し、且つ有機アルカリからなる剥離液等により容易に溶解しうる高い剥離性を具備したネガ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 (イ)ポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜10,000であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂100重量部に対して、(ロ)メチロール基および/またはアルコキシメチル基を含有し、酸の存在下で前記アルカリ可溶性ノボラック樹脂を架橋しうる化合物1〜10重量部、および(ハ)下記一般式で表される感放射線性酸発生剤0.01〜5重量部を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔但し、R は-CX3基、フェニル基、ナフチル基、スチリル基またはフリルエチリデン基を示し、X はハロゲン原子を示す。〕
Claim (excerpt)：
(イ)ポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜10,000であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂100重量部に対して、(ロ)メチロール基および/またはアルコキシメチル基を含有し、酸の存在下で前記アルカリ可溶性ノボラック樹脂を架橋しうる化合物1〜10重量部、および(ハ)下記一般式(1)で表される感放射線性酸発生剤0.01〜5重量部を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R は-CX3基、置換あるいは非置換のフェニル基、置換あるいは非置換のナフチル基、置換あるいは非置換のスチリル基または置換あるいは非置換のフリルエチリデン基を示し、X はハロゲン原子を示し、一般式(1)中の各X は相互に同一でも異なってもよい。〕
IPC (4)：
G03F 7/038 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • 特開平4-163552
  • 特開平4-230757
  • 特開平4-226454
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