Pat
J-GLOBAL ID:200903083592710364
光ファイバの製造方法、光ファイバ、光通信システム
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001045409
Publication number (International publication number):2002249335
Application date: Feb. 21, 2001
Publication date: Sep. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバにおいて伝送損失を低減することができる光ファイバの製造方法および光ファイバを提供する。【解決手段】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバを製造する場合、まずプリフォーム5にプリフォーム軸方向に延びる複数本の貫通穴部9を形成する。続いて、プリフォーム5の貫通穴部9内に乾燥気体を流しながら、炉内の加熱部24によりプリフォーム5を、望ましくは800°C以上で30分以上の時間にわたって加熱する。これにより、貫通穴部9におけるプリフォーム5の内壁5a表面に存在するOH基が、プリフォーム5の外部に排出される。続いて、プリフォーム5を加熱部24により加熱し、プリフォーム5を光ファイバに線引する。以上により、伝送損失の低い光ファイバを得ることができる。
Claim (excerpt):
軸方向に延びる空孔を有する光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、前記空孔となる貫通穴部を有するプリフォームを形成する第1の工程と、乾燥性を有する気体を前記貫通穴部内に流しながら、前記プリフォームを加熱する第2の工程と、前記プリフォームを光ファイバに線引きする第3の工程とを含むことを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (3):
C03B 37/027
, G02B 6/00 356
, G02B 6/20
FI (3):
C03B 37/027 Z
, G02B 6/00 356 A
, G02B 6/20 Z
F-Term (8):
2H050AA01
, 2H050AB03Z
, 2H050AC13
, 2H050AC64
, 2H050AD01
, 2H050AD16
, 4G021BA11
, 4G021HA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
特開平1-153551
-
微細構造光ファイバ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-144727
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
-
フォトニッククリスタルファイバの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-006394
Applicant:三菱電線工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
光ファイバの製造方法、及び、光ファイバ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-253419
Applicant:住友電気工業株式会社
-
石膏ボード補強材用不織布及び石膏ボード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-194085
Applicant:王子製紙株式会社
-
微細構造光ファイバ用母材及び微細構造光ファイバの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-034801
Applicant:住友電気工業株式会社
-
フォトニッククリスタルファイバの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-287528
Applicant:三菱電線工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
フォトニッククリスタルファイバの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-330172
Applicant:三菱電線工業株式会社, 日本電信電話株式会社
Show all
Return to Previous Page