Pat
J-GLOBAL ID:200903083716354332
プローブ固相化反応アレイ
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 村松 貞男
, 風間 鉄也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003128266
Publication number (International publication number):2004333255
Application date: May. 06, 2003
Publication date: Nov. 25, 2004
Summary:
【課題】高効率、高精度で試料被検試料の低減が可能であり、かつ迅速なマイクロアレイ解析が可能なプローブ固相化反応アレイ、並びに該アレイを用いた解析方法を提供する。【解決手段】支持体に独立して形成された第1から第nまでの複数の反応部を備え、反応部には、プローブが複数固定化され、複数列で配置されていることを特徴とするプローブ固相化反応アレイである。さらに、(1)プローブ固相化反応アレイに具備される第1から第nまでの反応部に対して被検試料を添加することと、(2)第1から第nまでの反応部における反応条件を、各反応部の至適反応条件に従って制御しながら、前記プローブ群と標的物質とを反応させることと、(3)プローブと標的物質との結合を検出することによって、被検試料中の標的物質を検出する方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プローブが支持体に固相化されたプローブ固相化反応アレイであって、
前記支持体は、前記支持体に独立して形成された第1から第nまでの複数の反応部(ここでnは2以上の整数である)を備え、
該反応部には、プローブが複数固定化されており、
該プローブの配置は複数列であることを特徴とするプローブ固相化反応アレイ。
IPC (8):
G01N33/53
, C12M1/00
, C12M1/34
, C12N15/09
, C12Q1/68
, G01N21/78
, G01N33/58
, G01N37/00
FI (11):
G01N33/53 M
, G01N33/53 D
, G01N33/53 N
, C12M1/00 A
, C12M1/34 Z
, C12Q1/68 A
, G01N21/78 C
, G01N33/58 A
, G01N37/00 102
, C12N15/00 A
, C12N15/00 F
F-Term (52):
2G045AA34
, 2G045AA35
, 2G045BB50
, 2G045BB51
, 2G045DA12
, 2G045DA13
, 2G045DA36
, 2G045FA11
, 2G045FB01
, 2G045FB02
, 2G045FB03
, 2G045FB07
, 2G045FB12
, 2G045GC15
, 2G045JA01
, 2G045JA07
, 2G054CA22
, 2G054CA23
, 2G054EA03
, 4B024AA11
, 4B024AA19
, 4B024CA01
, 4B024CA09
, 4B024CA11
, 4B024HA13
, 4B024HA14
, 4B024HA20
, 4B029AA07
, 4B029AA21
, 4B029AA23
, 4B029BB15
, 4B029BB20
, 4B029CC01
, 4B029CC02
, 4B029CC03
, 4B029CC08
, 4B029CC13
, 4B029FA12
, 4B029FA15
, 4B063QA01
, 4B063QQ42
, 4B063QQ52
, 4B063QR32
, 4B063QR35
, 4B063QR38
, 4B063QR56
, 4B063QR82
, 4B063QR83
, 4B063QR84
, 4B063QS34
, 4B063QS36
, 4B063QX02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
DNAキャピラリィ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-234145
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
生体試料検出用チップ及び生体試料検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-216160
Applicant:三菱化学株式会社
-
DNAプローブアレー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-053099
Applicant:株式会社日立製作所
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