Pat
J-GLOBAL ID：200903084322763799

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

Inventor：
花村 政暁

About 花村 政暁

, 
高本 英司

About 高本 英司

, 
蓑輪 貴樹

About 蓑輪 貴樹


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005369301
Publication number (International publication number)：2007171572
Application date： Dec. 22, 2005
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：
【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。【解決手段】不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、フェノール骨格含有不飽和化合物および上記化合物以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに1,2-キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、 (a2)エポキシ基含有不飽和化合物、 (a3)下記式(I)
IPC (3)：
G03F 7/027 ,  G03F 7/40 ,  G02B 3/00
FI (3)：
G03F7/027 ,  G03F7/40 501 ,  G02B3/00 A
F-Term (17)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA29 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096EA02 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM