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J-GLOBAL ID：200903039464524109

有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子

Inventor：
鈴木 正睦

About 鈴木 正睦

, 
佐々木 寛文

About 佐々木 寛文

, 
西村 功

About 西村 功

, 
丹羽 一明

About 丹羽 一明


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000379680
Publication number (International publication number)：2002182380
Application date： Dec. 14, 2000
Publication date： Jun. 26, 2002
Summary：
【要約】【課題】 スルーホールあるいはコの字型の窪みを形成できるとともに、平坦化性能に優れ、かつ高い透明性およびレジスト剥離液に対する高い耐性を持つ有機EL素子の絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機EL素子の絶縁膜、および該絶縁膜を有する有機EL表示素子を提供すること。【解決手段】 組成物は(a)エポキシ基を含有するアルカリ可溶性樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物、を含有する。絶縁膜は、上記組成物より形成される。有機EL表示素子は、前記絶縁膜を有する。
Claim (excerpt)：
(a)エポキシ基を含有するアルカリ可溶性樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物、を含有することを特徴とする有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (7)：
G03F 7/022 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/038 503 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (7)：
G03F 7/022 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/038 503 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
F-Term (34)：
2H025AA06 ,  2H025AA07 ,  2H025AA08 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AA20 ,  2H025AB14 ,  2H025AD03 ,  2H025BA06 ,  2H025BE01 ,  2H025BJ00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025DA40 ,  2H025FA29 ,  3K007AB00 ,  3K007BB02 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  4J002BH021 ,  4J002CD171 ,  4J002CD191 ,  4J002EQ036 ,  4J002FD310 ,  4J002GQ01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
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