基板処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：下出隆史 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997314288
Publication number (International publication number)：1999135395
Application date： Oct. 29, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】複数の処理ユニットへの基板の搬送順序を任意に変更する場合にも制御手順や処理レシピが過度に複雑になることを防止できる技術を提供する。【解決手段】基板処理装置は、基板を処理するための複数の処理ユニットと、メインコントローラと、各処理ユニットを制御する複数のサブコントローラと、を備えている。複数の処理ユニットには、互いに異なるユニット番号が予め割り当てられており、処理レシピの搬送順序情報は、各処理ユニットを識別するためのユニット番号を含んでいる。メインコントローラは、ユニット番号で指定された処理ユニットの制御を担当すべきサブコントローラに処理レシピの中の処理条件をそれぞれ転送して制御を実行させる。

Claim (excerpt)：

基板の処理を行なうための基板処理装置であって、基板を処理するための複数の処理ユニットと、基板を前記複数の処理ユニットのいくつかに順次搬送してゆく順序を示す搬送順序情報と、各処理ユニットにおける処理条件を示す処理条件情報と、を含む処理レシピを記憶するための記憶手段と、前記処理レシピに従って前記基板処理装置全体の制御を行うメインコントローラと、前記メインコントローラの制御の下で前記複数の処理ユニットを制御する複数のサブコントローラと、を備え、前記複数の処理ユニットには、互いに異なるユニット番号が予め割り当てられており、前記搬送順序情報は、各処理ユニットを識別するための処理ユニット識別情報として前記ユニット番号を含み、前記メインコントローラは、前記搬送順序情報に含まれている前記ユニット番号で指定された処理ユニットの制御を担当すべきサブコントローラに前記処理レシピの中の処理条件をそれぞれ転送して制御を実行させることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/02 , H01L 21/304 341 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/02 Z , H01L 21/304 341 Z , H01L 21/68 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-351771 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
生産制御システム及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-068680 Applicant：日本電気株式会社
製造装置管理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-332970 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Return to Previous Page