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J-GLOBAL ID:200903084392623137

近接場顕微鏡用プローブおよびその製造方法ならびにそのプローブを用いた走査型プローブ顕微鏡

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松下 義治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004255133
Publication number (International publication number):2006071448
Application date: Sep. 02, 2004
Publication date: Mar. 16, 2006
Summary:
【課題】 散乱型近接場顕微鏡用のプローブ作製において、表面増強ラマン散乱を効率良く誘起する均一な金属粒子を、再現性よくコーティングする方法を提供する。【解決手段】 散乱型近接場用プローブ1において、少なくともエバネッセント場の相互作用に起因するプローブの一部または全部が、互いに癒着することのない曲率半径10nm以上50nm以下の粒径を持つ金属7でコーティングされるようにした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
サンプル表面に発生させたエバネッセント場にプローブを挿入し、プローブ先端でエバネッセント場を散乱させて散乱光を検出する近接場顕微鏡において、 少なくともエバネッセント場の相互作用に起因するプローブの一部または全部が、互いに癒着することのない曲率半径10nm以上50nm以下の粒径を持つ金属でコーティングされた近接場顕微鏡用プローブ。
IPC (3):
G01N 13/14 ,  G01N 21/27 ,  G12B 21/06
FI (3):
G01N13/14 B ,  G01N21/27 C ,  G12B1/00 601C
F-Term (16):
2G043AA03 ,  2G043CA05 ,  2G043EA03 ,  2G043GA04 ,  2G043GB02 ,  2G043HA01 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043MA01 ,  2G059AA02 ,  2G059BB20 ,  2G059EE03 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059KK04 ,  2G059NN01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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