Pat
J-GLOBAL ID:200903084397438079
水の分解装置及び分解方法並びに水分解用メカノ触媒
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
平山 一幸
, 海津 保三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004118253
Publication number (International publication number):2005170780
Application date: Apr. 13, 2004
Publication date: Jun. 30, 2005
Summary:
【課題】 金属、半導体、化合物、合金の何れか又は混合した微粒子を用いて、水の分解ができ、酸素の生成を著しく低下して主として水素だけを生成するメカノ触媒と、この触媒による水の分解装置及び分解方法を提供する。【解決手段】 メカノ触媒2と水又は水を含む溶液とからなる懸濁液3を収容する反応容器4と、反応容器4内に配設される撹拌子5と、撹拌子5を撹拌する撹拌装置6と、を備えたメカノキャタリシスによる水の分解装置1において、メカノ触媒2は、金属、半導体、化合物、合金のいずれかの微粒子であり、水を分解することにより主として水素を発生させる。さらに、懸濁液3を脱気する不活性ガス供給部8を備えていてもよい。メカノ触媒2として、特にTi,Si,Al,Ti-Nb,Ti-Fe,TiSi2 ,ラネー鉄,ZrSi2 ,デバルタ合金などを用いると、水素の発生量が大きい。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
メカノ触媒と水又は水を含む溶液とからなる懸濁液を収容する反応容器と、
上記反応容器内に配設される撹拌子と、
上記撹拌子を撹拌する撹拌装置と、を備えたメカノキャタリシスによる水の分解装置において、
上記メカノ触媒は、金属、半導体、化合物、合金の何れか又は混合した微粒子であり、水を分解することにより主として水素を発生させることを特徴とする、水の分解装置。
IPC (19):
C01B3/04
, B01J21/02
, B01J21/06
, B01J23/06
, B01J23/14
, B01J23/20
, B01J23/26
, B01J23/28
, B01J23/30
, B01J23/42
, B01J23/50
, B01J23/52
, B01J23/72
, B01J23/745
, B01J23/75
, B01J23/755
, B01J25/00
, B01J25/02
, B01J27/224
FI (19):
C01B3/04 R
, B01J21/02 M
, B01J21/06 M
, B01J23/06 M
, B01J23/14 M
, B01J23/20 M
, B01J23/26 M
, B01J23/28 M
, B01J23/30 M
, B01J23/42 M
, B01J23/50 M
, B01J23/52 M
, B01J23/72 M
, B01J25/00 M
, B01J25/02 M
, B01J27/224 M
, B01J23/74 321M
, B01J23/74 311M
, B01J23/74 301M
F-Term (108):
4G069AA02
, 4G069BB01A
, 4G069BB01B
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BB03A
, 4G069BB03B
, 4G069BB05B
, 4G069BB15A
, 4G069BB15B
, 4G069BB20A
, 4G069BB20B
, 4G069BC16A
, 4G069BC16B
, 4G069BC22A
, 4G069BC22B
, 4G069BC31A
, 4G069BC31B
, 4G069BC32A
, 4G069BC32B
, 4G069BC33A
, 4G069BC33B
, 4G069BC35A
, 4G069BC35B
, 4G069BC50A
, 4G069BC50B
, 4G069BC51A
, 4G069BC51B
, 4G069BC54B
, 4G069BC55A
, 4G069BC55B
, 4G069BC56B
, 4G069BC58A
, 4G069BC58B
, 4G069BC59A
, 4G069BC59B
, 4G069BC60A
, 4G069BC60B
, 4G069BC66A
, 4G069BC66B
, 4G069BC67A
, 4G069BC67B
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
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, 4G069BD05B
, 4G069CC33
, 4G069DA08
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, 4G069EA02Y
, 4G069FB04
, 4G169AA02
, 4G169BB01A
, 4G169BB01B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
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, 4G169BC16A
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, 4G169BC32A
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, 4G169BC33B
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, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD04B
, 4G169BD05B
, 4G169CC33
, 4G169DA08
, 4G169EA02X
, 4G169EA02Y
, 4G169FB04
, 5H027AA02
, 5H027BA00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (9)
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水素ガス製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-096111
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-059601
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特開昭49-091979
-
水素ガスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-205626
Applicant:桐生機械株式会社
-
金属酸化物を用いたメカノキャタリシスによる水の分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-253024
Applicant:科学技術振興事業団
-
水素発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-210766
Applicant:日本電信電話株式会社
-
新規な光反応用触媒及びそれを使用する光触媒反応方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-237424
Applicant:工業技術院長
-
摩擦腐食反応を利用した水素ガス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-304105
Applicant:渡辺正夫, 渡辺洋子
-
水素及び/または酸素の製造方法、水素及び/または酸素の生成用触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-151234
Applicant:株式会社ニコン
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