全反射蛍光X線分析装置および全反射蛍光X線を用いた分析方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤本英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002373524
Publication number (International publication number)：2004205305
Application date： Dec. 25, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】溶液をピンポイントの微小領域に凝縮させると共に、凝縮した測定対象試料を用いて超微量の測定対象試料を高感度で分析できる全反射蛍光X線分析装置および全反射蛍光X線を用いた分析方法を提供する。【解決手段】表面に撥水性を有する板体2上の微小領域Aに凝縮された測定対象試料Sに対して照射するX線X0 を発生するX線管3と、このX線X1 を前記測定対象試料Sが凝縮された微小領域Aに合わせて絞られた微小な測定部位Axに集光すると共に板体2に対して臨界角度以下の入射角αで照射する集光手段5と、X線X1 ’を照射した測定対象試料Sから発生する蛍光X線X2 の強度を検出するX線検出器6とからなる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

表面に撥水性を有する板体上の微小領域に凝縮された測定対象試料に対して照射するX線を発生するX線管と、このX線を前記測定対象試料が凝縮された微小領域に合わせて絞られた微小な測定部位に集光すると共に板体に対して臨界角度以下の入射角で照射する集光手段と、X線を照射した測定対象試料から発生する蛍光X線の強度を検出するX線検出器とからなることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

IPC (2)：

G01N23/223 , G01N1/28

FI (2)：

G01N23/223 , G01N1/28 L

F-Term (19)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001EA09 , 2G001KA01 , 2G001MA02 , 2G001PA11 , 2G001PA14 , 2G001RA10 , 2G001SA02 , 2G052AD26 , 2G052AD52 , 2G052DA05 , 2G052EB01 , 2G052EB04 , 2G052ED01 , 2G052FD18 , 2G052GA19 , 2G052JA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

分析用試料板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-349880 Applicant：株式会社ピュアレックス, 株式会社東芝
半導体基板又は薬品の不純物分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-052701 Applicant：住友金属工業株式会社
撥水性表面の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-296264 Applicant：株式会社京都第一科学

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