Pat
J-GLOBAL ID：200903084464547503

液体処理装置および液体処理方法

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
中條 数美

About 中條 数美

, 
岩田 耕治

About 岩田 耕治

, 
片岡 正紀

About 片岡 正紀


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (3)： 山崎 宏 ,  田中 光雄 ,  仲倉 幸典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007141422
Publication number (International publication number)：2008296073
Application date： May. 29, 2007
Publication date： Dec. 11, 2008
Summary：
【課題】難分解性の有機物を効果的に分解処理することができる液体処理方法および液体処理装置を提供する。【解決手段】この液体処理装置は、第1磁力ナノバブル発生機51が設置された原水槽1と第2磁力ナノバブル発生機52が設置された処理水槽62を備える。第1磁力ナノバブル発生機51は磁気活水器12,マイクロバブル発生部8,第1気体せん断部6,第2気体せん断部4を有し、第2磁力ナノバブル発生機52は磁気活水器48,マイクロバブル発生部46,第1気体せん断部43,第2気体せん断部41を有する。原水槽1,処理水槽62内に、磁気活水器12,48により磁力を作用させた水に発生させたナノバブルである磁力ナノバブル流3,40が発生し、磁力の持つ電気エネルギーに関係するラジカルとナノバブルが有するラジカルの相乗効果により、難分解性の有機物等を分解可能になる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
液体に磁界を作用させる磁界発生部と、 上記磁界を作用させた液体にナノバブルを発生させるナノバブル発生機とを備えることを特徴とする液体処理装置。
IPC (6)：
C02F 1/48 ,  B01F 3/04 ,  B01D 24/02 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/06 ,  C02F 9/00
FI (13)：
C02F1/48 A ,  B01F3/04 Z ,  B01D23/10 Z ,  C02F1/28 F ,  C02F3/06 ,  C02F9/00 501B ,  C02F9/00 502D ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 502L ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 504A ,  C02F9/00 504C ,  C02F9/00 504E
F-Term (50)：
4D003AA01 ,  4D003AB13 ,  4D003CA02 ,  4D003CA07 ,  4D003CA10 ,  4D003EA17 ,  4D003EA25 ,  4D003EA30 ,  4D003FA06 ,  4D041BA01 ,  4D041BB04 ,  4D041CA03 ,  4D041CA08 ,  4D041CB03 ,  4D041CB04 ,  4D061DA02 ,  4D061DA03 ,  4D061DA07 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC09 ,  4D061EA18 ,  4D061EC05 ,  4D061EC18 ,  4D061FA06 ,  4D061FA13 ,  4D061FA15 ,  4D061GA08 ,  4D061GC15 ,  4D061GC20 ,  4D624AA01 ,  4D624AA04 ,  4D624AA06 ,  4D624AB04 ,  4D624AB11 ,  4D624BA02 ,  4D624BA03 ,  4D624BB01 ,  4D624BC01 ,  4D624CA01 ,  4D624DA07 ,  4D624DB02 ,  4D624DB03 ,  4D624DB11 ,  4D624DB15 ,  4G035AB15 ,  4G035AB16 ,  4G035AC22 ,  4G035AC33 ,  4G035AE05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-121082   Applicant：日立エンジニアリング株式会社
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM