プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：和泉良彦 , 小林茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003270987
Publication number (International publication number)：2004200646
Application date： Jul. 04, 2003
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：

【課題】大面積基板を処理することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】矩形導波管1と、矩形導波管1に設けられ、導波管アンテナを構成する複数のスロット2と、誘電体からなる電磁波放射窓4と、真空容器5とを具備し、スロット2から電磁波放射窓4を通して真空容器5内に放射された電磁波によってプラズマを生成し、プラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、矩形導波管1が複数あり、矩形導波管1どうしが接して配置され、複数のスロット2に共通して対応する電磁波放射窓4を複数設け、マイクロ波源3から複数の矩形導波管1に電磁波を分配する電磁波分配用導波管部17を有し、複数の電磁波放射窓4と真空容器5との間で真空が保持され、スロット2がプラズマ処理する基板8の全面積に渡りほぼ均一に分布されている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

導波管と、前記導波管に設けられ、導波管アンテナを構成する複数のスロットと、誘電体からなる電磁波放射窓と、真空容器とを具備し、前記スロットから前記電磁波放射窓を通して前記真空容器内に放射された電磁波によってプラズマを生成し、プラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記導波管が複数あり、前記導波管どうしが接して配置され、電磁波源から複数の前記導波管に電磁波を分配する電磁波分配用導波管部を有し、複数の前記電磁波放射窓と前記真空容器との間で真空が保持されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7)：

H01L21/31 , B01J3/00 , B01J19/08 , C23C16/511 , C23F4/00 , H01L21/3065 , H05H1/46

FI (7)：

H01L21/31 C , B01J3/00 J , B01J19/08 E , C23C16/511 , C23F4/00 A , H05H1/46 B , H01L21/302 101D

F-Term (44)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA24 , 4G075CA47 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EE31 , 4G075FC15 , 4K030BA30 , 4K030CA06 , 4K030FA01 , 4K030JA18 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 4K057DA11 , 4K057DA16 , 4K057DA20 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F045AA09 , 5F045AA20 , 5F045AB32 , 5F045AC11 , 5F045AC16 , 5F045AD07 , 5F045AF03 , 5F045CA15 , 5F045DP04 , 5F045EB02 , 5F045EH02 , 5F045EH03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-240876 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
特許第2857090号公報
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-073510 Applicant：ミクロ電子株式会社

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Cited by examiner (2)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-264630 Applicant：住友金属工業株式会社
プラズマ処理装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-010781 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 八坂保能

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