Pat
J-GLOBAL ID：200903069435740303

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置

Inventor：
坂本 雄一

About 坂本 雄一

, 
仙田 和章

About 仙田 和章


Applicant, Patent owner：
ミクロ電子株式会社

About ミクロ電子株式会社


Agent (1)： 小池 寛治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001073510
Publication number (International publication number)：2002280196
Application date： Mar. 15, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 マイクロ波を利用し、密度の一様性と高密度のプラズマとして大面積のプラズマを発生させるプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ発生室41に複数の導波管42、43、44を等間隔に平行配設すると共に、各々の導波管には先端側に向かって結合係数を順次大きくした結合孔42a〜42c、43a〜43c、44a〜44cを形成し、さらに、プラズマ発生室41には、各々の結合孔に対応して分割形成した誘電体窓45を設け、結合孔各々からプラズマ発生室41内ら放射されるマイクロ波電力を均一化させることにより、密度の一様性と高密度として大面積のプラズマを発生させる構成となっている。
Claim (excerpt)：
プラズマ発生室にマイクロ波エネルギ-を供給してプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、マイクロ波エネルギ-を供給する複数の導波管を所定間隔で平行配設すると共に、各々の導波管には管軸方向に沿って複数の結合孔を設け、かつ、導波管の先端方向に向って順次位置する結合孔の結合係数を順次大きく形成し、さらに、プラズマ発生室には導波管の各々の結合孔に対応させた複数の誘電体窓を設けて構成したことを特徴とするマイクロ波を利用したプラズマ発生装置。
IPC (5)：
H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (5)：
H05H 1/46 B ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
F-Term (24)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC07 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F045AA09 ,  5F045AB07 ,  5F045AC07 ,  5F045BB02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-153357   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
  • プラズマ装置へのマイクロ波導入装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-270104   Applicant：株式会社神戸製鋼所
  • マイクロ波励起プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-051507   Applicant：株式会社東芝
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM