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J-GLOBAL ID:200903086227982869
基板保持装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山本 惠二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993343706
Publication number (International publication number):1995176603
Application date: Dec. 16, 1993
Publication date: Jul. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 静電チャックのチャック基板を薄くすることおよびベースの冷却水路面積を大きくすることを可能にすることによって基板に対する冷却能力を高めることができ、しかも静電チャックの高精度の仕上加工を可能にすることによって基板に対する吸着力を高めることができるようにした基板保持装置を提供する。【構成】 静電チャック4の裏面とベース10との間に、静電チャック4のチャック基板6を構成するセラミックスよりも高熱伝導率およびベース10を構成する材料よりも高強度の材料から成り、上面が静電チャック4の裏面に接合されているチャック補強板14を設けた。
Claim (excerpt):
セラミックス製のチャック基板の内部または裏面に電極を有していて被吸着物である基板を静電気によって吸着する静電チャックと、この静電チャックを支持するベースであって冷却水を流す冷却水路を有するものとを備える基板保持装置において、前記静電チャックの裏面とベースとの間に、静電チャックのチャック基板を構成するセラミックスよりも高熱伝導率およびベースを構成する材料よりも高強度の材料から成り、上面が静電チャックの裏面に接合されているチャック補強板を設けたことを特徴とする基板保持装置。
IPC (6):
H01L 21/68
, C23C 14/50
, H01J 37/317
, H01L 21/265
, H01L 21/3065
, B23Q 3/15
FI (2):
H01L 21/265 E
, H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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静電チヤツク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-246965
Applicant:東陶機器株式会社
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特開平4-034953
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静電チヤツク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-190023
Applicant:京セラ株式会社
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特開昭63-081956
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特開平4-034953
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特開昭62-047153
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温度サイクル動作型セラミツク静電式チヤツク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-080760
Applicant:インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
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静電吸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-174095
Applicant:日本真空技術株式会社, 日本特殊陶業株式会社
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特開平4-034953
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特開昭63-081956
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特開昭62-047153
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特開平4-034953
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