溶液プラズマ反応装置及び該装置を使用したナノ材料の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：芳村武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006250221
Publication number (International publication number)：2008071656
Application date： Sep. 15, 2006
Publication date： Mar. 27, 2008
Summary：

【課題】低コストで有害廃棄物の発生を防止しながら、ナノ材料を効率良く製造する溶液プラズマ反応装置及び該装置を使用したナノ材料の製造方法を提供する。【解決手段】反応装置は、溶液反応槽1及び反応槽1内に配置されるプラズマ発生電極2を具備するもので、プラズマ発生電極2は、中心部に配置したガス導入管3及びその周囲に配置した円柱状の電極部4により構成される。電極部4の中心には冷却媒体導入部5が設置されており、空冷もしくは水冷等により冷却可能となっている。電極部4には高周波電源から高周波を印加する高周波入力端子6が、電極部4の外側から電極部4の中心部の空洞9に達するように設けられている。ガス導入管3から入ったガスが高周波入力端子6から導入された電場によりプラズマ化し、このプラズマが反応槽1内の反応液8に導入され、反応液の一部が直接プラズマ化して溶液プラズマを形成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

溶液反応槽内に、ガス導入管及びその周囲に配置した高周波電源に接続する柱状の電極部からなるプラズマ発生電極を設けたことを特徴とする溶液プラズマ反応装置。

IPC (5)：

H05H 1/24 , B82B 3/00 , B22F 9/02 , B22F 9/24 , B22F 9/14

FI (5)：

H05H1/24 , B82B3/00 , B22F9/02 Z , B22F9/24 Z , B22F9/14 Z

F-Term (15)：

4K017AA02 , 4K017AA03 , 4K017AA04 , 4K017AA06 , 4K017BA01 , 4K017BA02 , 4K017BA03 , 4K017BA05 , 4K017BA06 , 4K017CA08 , 4K017EF00 , 4K017EF04 , 4K017EJ01 , 4K017EJ02 , 4K017FA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

大気圧プラズマを利用した洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-350692 Applicant：株式会社アトム技研
シリカ微粒子、それが分散したシリカコロイド及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-112610 Applicant：新日鐵化学株式会社
レーザーアブレーション装置、及びそれを利用したナノ粒子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-244891 Applicant：三星電子株式会社

Cited by examiner (7)

液体処理方法及び液体処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-272146 Applicant：佐藤正之, 株式会社神戸製鋼所
マイクロ波放電管の冷却方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-275175 Applicant：三菱重工業株式会社
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-090106 Applicant：株式会社テクノネットワーク四国, 三浦工業株式会社

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