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J-GLOBAL ID:200903089299729938
マイクロマシンの製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松隈 秀盛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999151865
Publication number (International publication number):2000343463
Application date: May. 31, 1999
Publication date: Dec. 12, 2000
Summary:
【要約】【課題】球体とそれを囲む球殻部を有する球体型マイクロマシンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のマイクロマシンの製造方法は、球体を覆うように犠牲膜を形成することと、上記犠牲膜の上に導電体パターンを形成することと、上記導電体パターンを覆うように絶縁体膜を形成することと、上記絶縁体膜に孔を形成して上記導電体パターンを露出させることと、上記絶縁体膜より露出した上記導電体パターンに接続するように上記絶縁体膜上に配線パターンを形成することと、上記配線パターンが形成された球体を覆うように絶縁体の構造膜を形成することと、上記構造膜の外面から上記犠牲膜に達する複数のエッチング孔を形成することと、上記エッチング孔より気相エッチングによって上記犠牲膜を除去することと、を含む。
Claim (excerpt):
球体を覆うように犠牲膜を形成することと、上記犠牲膜の上に少なくとも1個の導電体パターン又は絶縁体を含む機能膜を形成することと、上記機能膜が形成された球体を覆うように絶縁体の構造膜を形成することと、上記構造膜の外面から上記犠牲膜に達するエッチング孔を形成することと、上記エッチング孔より気体エッチング剤を導入することによって上記犠牲膜を除去することと、を含む球体とそれを囲む球殻部からなるマイクロマシンの製造方法。
IPC (5):
B25J 7/00
, B62D 57/00
, G01P 15/125
, G01P 15/13
, G01C 19/06
FI (5):
B25J 7/00
, G01P 15/125
, G01P 15/13
, G01C 19/06
, B62D 57/00 K
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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傾斜計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-151872
Applicant:ボールセミコンダクター株式会社, 江刺正喜
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特開平2-119241
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ポジ型感光性ポリイミド樹脂とそれを用いた微小機械の作製方法および静電モータの作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-338269
Applicant:松下技研株式会社
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2つの自由度を備えたマイクロ工学的要素の製造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-169503
Applicant:ゼロックスコーポレイション
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マイクロマシンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-258291
Applicant:沖電気工業株式会社
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マイクロ構造体及びその形成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-272109
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体センサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-246497
Applicant:日本電装株式会社
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Article cited by the Patent:
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