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J-GLOBAL ID:200903089965407312
光活性化合物および感光性樹脂組成物
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鍬田 充生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002094756
Publication number (International publication number):2002363123
Application date: Mar. 29, 2002
Publication date: Dec. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。【解決手段】 光活性化合物は、下記式(1)で表され、感光剤と組み合わせて使用される。A-[(J)m-(X-Pro)]n (1)(式中、Aは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Jは連結基を示し、X-Proは光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された親水性基を示す。mは0又は1、nは1以上の整数である)前記保護基Proは、光照射により、感光剤(特に酸発生剤)と関連して脱離可能であってもよく、疎水性保護基であってもよい。親水性基は、ヒドロキシル基、カルボキシル基などであってもよい。
Claim (excerpt):
感光剤と組み合わせて用いられる光活性化合物であって、下記式(1)で表される光活性化合物。A-[(J)m-(X-Pro)]n (1)(式中、Aは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Jは連結基を示し、X-Proは光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された親水性基を示す。mは0又は1、nは1以上の整数である)
IPC (11):
C07C 43/303
, C07C 69/734
, C07C 69/736
, C07C 69/76
, C07C 69/773
, C07C 69/92
, C07C 69/96
, C07C317/22
, C07F 7/08
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (12):
C07C 43/303
, C07C 69/734 Z
, C07C 69/736
, C07C 69/76 Z
, C07C 69/773
, C07C 69/92
, C07C 69/96 Z
, C07C317/22
, C07F 7/08 C
, C07F 7/08 K
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (30):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H006BN30
, 4H006BP10
, 4H006BP30
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ03
, 4H049VQ04
, 4H049VQ28
, 4H049VR24
, 4H049VU29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
-
特開平4-089451
-
特開昭63-179843
-
特開昭63-179909
-
特開平1-311051
-
特開平2-172945
-
新規なビスフェノール誘導体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-273009
Applicant:和光純薬工業株式会社
-
トランス-シクロヘキサン化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-289351
Applicant:信越化学工業株式会社
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-111129
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
新規化合物ならびにその製造および使用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-091459
Applicant:シャープ株式会社
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-028335
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
特開昭62-077356
-
特開昭49-095949
-
光画像記録材料および光画像記録方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-260489
Applicant:大日本印刷株式会社
-
ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-060986
Applicant:日本電信電話株式会社
-
記録体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-336472
Applicant:日本製紙株式会社
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