浄化装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山崎宏 , 田中光雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006336992
Publication number (International publication number)：2008149215
Application date： Dec. 14, 2006
Publication date： Jul. 03, 2008
Summary：

【課題】有機物汚泥の処分を簡単にすることができて、その上、富栄養化が進展した池の水を十分に浄化することができる浄化装置を提供する。【解決手段】ろ過機19でろ過された水は、オゾンマイクロナノバブル発生水槽4およびナノバブル発生水槽16に導入可能となっている。オゾンマイクロナノバブル発生水槽4には、オゾンマイクロナノバブル発生水槽4内の水にマイクロナノバブルを発生する水中ポンプ型オゾンマイクロナノバブル発生装置48,旋回流型オゾンマイクロナノバブル発生装置49が設置されている。一方、ナノバブル発生水槽16には、ナノバブル発生水槽16内の水にナノバブルを発生するオゾンナノバブル発生装置50が設置されている。有機物汚泥分解槽35には、マイクロナノバブルを含有した水と、ナノバブルを含有した水とのうちの少なくとも一方が導入されると共に、ろ過機19で捕捉された有機物汚泥が導入される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

第1のろ過機と、上記第1のろ過機でろ過された水を導入可能なマイクロナノバブル発生水槽と、上記マイクロナノバブル発生水槽に設置され、上記マイクロナノバブル発生水槽内の水にマイクロナノバブルを発生するマイクロナノバブル発生装置と、上記第1のろ過機でろ過された水を導入可能なナノバブル発生水槽と、上記ナノバブル発生水槽に設置され、上記ナノバブル発生水槽内の水にナノバブルを発生するナノバブル発生装置と、上記マイクロナノバブルを含有した水と、上記ナノバブルを含有した水とのうちの少なくとも一方が導入されると共に、上記第1のろ過機で捕捉された有機物汚泥が導入される有機物汚泥分解槽とを備えることを特徴とする浄化装置。

IPC (4)：

C02F 1/78 , C02F 3/06 , C02F 3/10 , C02F 1/28

FI (5)：

C02F1/78 , C02F3/06 , C02F3/10 Z , C02F1/28 F , C02F1/28 D

F-Term (34)：

4D003AA01 , 4D003AB01 , 4D003AB02 , 4D003AB13 , 4D003BA02 , 4D003CA03 , 4D003CA10 , 4D003EA14 , 4D003EA15 , 4D003EA17 , 4D003EA25 , 4D003EA30 , 4D024AA05 , 4D024AB04 , 4D024BA02 , 4D024BC01 , 4D024CA01 , 4D024DB02 , 4D024DB15 , 4D050AA02 , 4D050AB11 , 4D050BB02 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA15 , 4D624AA05 , 4D624AB04 , 4D624BA02 , 4D624BC01 , 4D624CA01 , 4D624DB02 , 4D624DB15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
ナノ気泡の生成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-145325 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
廃液の処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-121082 Applicant：日立エンジニアリング株式会社

Cited by examiner (15)

排水処理方法および排水処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-060613 Applicant：シャープ株式会社
廃液の処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-121082 Applicant：日立エンジニアリング株式会社
ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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