モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長尾達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009095495
Publication number (International publication number)：2009200505
Application date： Apr. 10, 2009
Publication date： Sep. 03, 2009
Summary：

【課題】モールドと被加工物間に光硬化樹脂を介在させた状態でも、モールドと被加工物とを精度高く位置あわせができるモールドを提供する。【解決手段】モールドであって、第1の材料を含み構成される基板と、該基板上に設けられており、且つ該第1の材料とは異なる第2の材料を含み構成されているアライメントマークと、を備え、波長633nmの可視光に対する前記第2の材料の屈折率は、1.7以上である構成とする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

モールドであって、第1の材料を含み構成される基板と、該基板上に設けられており、且つ該第1の材料とは異なる第2の材料を含み構成されているアライメントマークと、を備え、波長633nmの可視光に対する前記第2の材料の屈折率は、1.7以上であることを特徴とするモールド。

IPC (4)：

H01L 21/027 , B29C 59/02 , B29C 33/38 , B29C 33/42

FI (4)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B , B29C33/38 , B29C33/42

F-Term (29)：

4F202AA44 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH73 , 4F202AH75 , 4F202AJ02 , 4F202AJ06 , 4F202CA01 , 4F202CA19 , 4F202CK28 , 4F202CR06 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH73 , 4F209AH75 , 4F209AJ02 , 4F209AJ06 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F046AA28 , 5F046EA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-130608 Applicant：日本電気株式会社
位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-239538 Applicant：キヤノン株式会社
微細加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-337561 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (3)

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-130608 Applicant：日本電気株式会社
微細加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-337561 Applicant：キヤノン株式会社
パターン転写装置、パターン転写方法およびプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-130833 Applicant：ソニー株式会社

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