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J-GLOBAL ID:200903090631549246
光干渉トモグラフィ用の可変波長光発生装置及び光干渉トモグラフィ装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (3):
光石 俊郎
, 田中 康幸
, 松元 洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004276773
Publication number (International publication number):2005156540
Application date: Sep. 24, 2004
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】制止困難な生体部分の断層観察を可能にするOCT技術を提供し、また、制止可能な部分の観察に対しても、制止を不要とし生体への負担を無くした断層観察技術を提供する。【解決手段】光干渉トモグラフィ装置の光源として、可変波長光発生装置(可変波長光源)を用いる。この可変波長光発生装置は波数を階段状に切り替え可能な手段を有するものとし、例えば波数の可変範囲の幅が4.7×10-2μm-1以上且つ出射光の周波数幅が13GHz以下であって、3.1×10-4μm-1以下の波数間隔且つ530μs以下の時間間隔で波数を階段状に切り替え可能な手段を有するものとする。【選択図】図1(a)
Claim (excerpt):
波数を階段状に切り替え可能な手段を有することを特徴とする光干渉トモグラフィ用の可変波長光発生装置。
IPC (2):
FI (2):
G01N21/01 D
, G01N21/17 620
F-Term (21):
2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (4)
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可変奥行き解像力を有する光学マッピング装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-543977
Applicant:オーティーアイオフサルミックテクノロジーズインク
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-317268
Applicant:日本電気株式会社
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半導体パルスレーザ装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-021800
Applicant:沖電気工業株式会社
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光イメージング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-374702
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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