Pat
J-GLOBAL ID:200903090862190674

窒化物半導体レーザ素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996067632
Publication number (International publication number):1997260772
Application date: Mar. 25, 1996
Publication date: Oct. 03, 1997
Summary:
【要約】【目的】 窒化物半導体よりなるレーザ素子の閾値電流を小さくして、室温で連続発振可能な素子を実現する。【構成】 基板上部に形成されたInGaNを含む活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することにより、リッジの下の活性層に光を集中させて、レーザ素子の閾値電流を低下させる。
Claim (excerpt):
基板上部に形成された活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page