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J-GLOBAL ID:200903090862190674
窒化物半導体レーザ素子
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996067632
Publication number (International publication number):1997260772
Application date: Mar. 25, 1996
Publication date: Oct. 03, 1997
Summary:
【要約】【目的】 窒化物半導体よりなるレーザ素子の閾値電流を小さくして、室温で連続発振可能な素子を実現する。【構成】 基板上部に形成されたInGaNを含む活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することにより、リッジの下の活性層に光を集中させて、レーザ素子の閾値電流を低下させる。
Claim (excerpt):
基板上部に形成された活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開平4-111375
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-203084
Applicant:日本電信電話株式会社
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青色発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-114541
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-101166
Applicant:ソニー株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-040238
Applicant:シャープ株式会社
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窒化物系化合物半導体光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-034576
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-111375
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