シクロヘキサンラクトン構造を有する重合性化合物及び重合体

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：有賀三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999239969
Publication number (International publication number)：2001064273
Application date： Aug. 26, 1999
Publication date： Mar. 13, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 〜R9 は、それぞれ独立して水素原子、シリル基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子又は1価非重合性有機置換基を示し、Aは重合可能な炭素-炭素二重結合を有する基を示す〕で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。【効果】短波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。

Claim (excerpt)：

次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 〜R9 は、それぞれ独立して水素原子、シリル基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子又は1価の非重合性有機置換基を示し、Aは重合可能な炭素-炭素二重結合を有する基を示す〕で表わされる重合性化合物。

IPC (4)：

C07D307/77 , C08F 20/28 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039

FI (4)：

C07D307/77 , C08F 20/28 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039

F-Term (37)：

2H025AA00 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 4C037XA01 , 4J100AB02Q , 4J100AB07Q , 4J100AE04Q , 4J100AE09Q , 4J100AJ02Q , 4J100AK32Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

キナ酸誘導体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-191256 Applicant：ソシエテデプロデユイネツスルソシエテアノニム
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-312722 Applicant：富士通株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

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