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J-GLOBAL ID:200903091131490934

赤外線検知素子とその製造方法及びその製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 和泉 良彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002008264
Publication number (International publication number):2003207391
Application date: Jan. 17, 2002
Publication date: Jul. 25, 2003
Summary:
【要約】【課題】赤外線吸収膜の赤外線吸収率を高めることができる赤外線検知素子とその製造方法及びその製造装置を提供する。【解決手段】赤外線吸収膜104を有し、入射赤外線エネルギーを赤外線吸収膜104において熱エネルギーに変換し、入射赤外線強度を検知する赤外線検知素子において、赤外線吸収膜104は、複数の膜厚極大点を有し、膜厚極大点と膜厚極小点との膜厚差、及び膜厚極大点の同一平面上の間隔が、干渉または散乱効果により実効的反射率が軽減するように設定され、複数の膜厚極大点と、膜厚極小点との膜厚差は、被測定赤外線波長の1/4と同等または1/4より大きく、複数の膜厚極大点の同一平面上の間隔は被測定赤外線波長よりも短くなっている。
Claim (excerpt):
赤外線吸収膜を有し、入射赤外線エネルギーを前記赤外線吸収膜において熱エネルギーに変換し、入射赤外線強度を検知する赤外線検知素子において、前記赤外線吸収膜は、複数の膜厚極大点を有し、前記膜厚極大点と膜厚極小点との膜厚差、及び前記膜厚極大点の同一平面上の間隔が、干渉または散乱効果により実効的反射率が軽減するように設定してあることを特徴とする赤外線検知素子。
IPC (7):
G01J 1/02 ,  G01J 5/02 ,  H01L 27/14 ,  H01L 35/14 ,  H01L 35/32 ,  H01L 35/34 ,  H04N 5/33
FI (7):
G01J 1/02 C ,  G01J 5/02 B ,  H01L 35/14 ,  H01L 35/32 A ,  H01L 35/34 ,  H04N 5/33 ,  H01L 27/14 K
F-Term (25):
2G065AB02 ,  2G065BA11 ,  2G065BA33 ,  2G065BA34 ,  2G065BB24 ,  2G065CA13 ,  2G065DA20 ,  2G066BA08 ,  2G066BA51 ,  2G066BA55 ,  2G066BB09 ,  2G066CA02 ,  4M118AA01 ,  4M118AB10 ,  4M118BA06 ,  4M118BA07 ,  4M118CB12 ,  5C024AX02 ,  5C024AX06 ,  5C024CX41 ,  5C024CY47 ,  5C024EX11 ,  5C024EX15 ,  5C024EX42 ,  5C024HX35
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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