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J-GLOBAL ID：200903091186275706

電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物

Inventor：
佐々木 知也

About 佐々木 知也

, 
水谷 一良

About 水谷 一良

, 
白川 浩司

About 白川 浩司


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001138738
Publication number (International publication number)：2002333713
Application date： May. 09, 2001
Publication date： Nov. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 高感度かつ高解像度で、得られるレジストパターンプロファイルが矩形(特に電子線照射用レジストに特有のT-top形状とならない)である、優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により脱離する基の中に、p-エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造のアセタール化合物のうち少なくとも一種を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、(b1)酸の作用により脱離する基の中に、p-エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)一般式(A)または一般式(B)で表されるアセタール化合物のうち少なくとも一種を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。【化1】式(A)または(B)中、R1’およびR2’は互いに独立して炭素数1〜30の有機基を表す。
IPC (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (20)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100BA03P ,  4J100HA43 ,  4J100HC09 ,  4J100HC13 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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