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J-GLOBAL ID：200903091420804335

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク

Inventor：
井村 和久

About 井村 和久

, 
佐野 道明

About 佐野 道明


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (1)： 大塚 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004190755
Publication number (International publication number)：2005037933
Application date： Jun. 29, 2004
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：
【課題】高品質のTFTを製造することが可能なハーフトーン膜タイプのグレートーンマスクの製造方法を提供する。【解決手段】透明基板21上に半透光膜22及び遮光膜23が順次形成されたマスクブランクを準備する工程と、マスクブランク上に遮光部に対応する領域のレジストパターン24aを形成し、該レジストパターン24aをマスクとして遮光膜23をエッチングすることにより半透光膜22上に遮光部を形成する工程と、次いで、少なくとも半透光部を含む領域にレジストパターン24bを形成し、該レジストパターン24bをマスクとして半透光膜22をエッチングすることにより半透光部及び透光部を形成する工程とを備える、遮光部、透光部及び半透光部からなるパターンを有するグレートーンマスクの製造方法である。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
遮光部、透光部、及び半透光部からなるパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、 透明基板上に、少なくとも半透光膜及び遮光膜が順次形成されたマスクブランクを準備する工程と、 前記マスクブランク上に前記遮光部に対応する領域のレジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとして、露出した遮光膜をエッチングすることにより、半透光膜上に遮光部を形成する遮光部パターン形成工程と、 次いで、少なくとも前記半透光部を含む領域にレジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとして、露出した半透光膜をエッチングすることにより、半透光部及び透光部を形成する半透光部パターン形成工程と、 を有することを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
IPC (4)：
G03F1/08 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786
FI (4)：
G03F1/08 A ,  G02F1/1368 ,  H01L29/78 612D ,  H01L29/78 627C
F-Term (25)：
2H092JA26 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA16 ,  2H092MA35 ,  2H092NA27 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB10 ,  2H095BB14 ,  2H095BB28 ,  2H095BC09 ,  2H095BC24 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110HK02 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110QQ01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (7)
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