電子装置の製造方法、パターン形成方法、及びそれに用いるマスク

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000128944
Publication number (International publication number)：2001305714
Application date： Apr. 25, 2000
Publication date： Nov. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。【解決手段】透明板の平坦な主表面に位相シフトパターンを形成し、この位相シフトパターンの端部をCr等の金属膜よりも反射率の小さい誘電体、高抵抗体、又は有機体の遮光膜パターンで被覆したマスクを用いて、被加工物の表面に形成された感光性膜に対してこのマスクパターンを投影露光して転写する。

Claim (excerpt)：

透明板の平坦な表面上に位相シフタ膜が部分的に形成され、上記位相シフタ膜の端部を覆って非金属からなる遮光膜が部分的に設けられたマスクを通して、電子装置を構成する被加工物の表面に設けられた感光性膜を露光し、上記感光性膜を現像することを特徴とする電子装置の製造方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 1/08 G , G03F 1/08 A , G03F 1/08 J , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

F-Term (9)：

2H095BA01 , 2H095BB03 , 2H095BB36 , 2H095BC05 , 2H095BC06 , 2H095BC28 , 5F046BA04 , 5F046BA08 , 5F046CB17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (11)

位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-250575 Applicant：シャープ株式会社
特開平3-208050
フォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-179520 Applicant：日本電気株式会社

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Cited by examiner (14)

位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-250575 Applicant：シャープ株式会社
特開平3-208050
フォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-179520 Applicant：日本電気株式会社

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