マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009514709
Publication number (International publication number)：2009540586
Application date： Jun. 15, 2007
Publication date： Nov. 19, 2009
Summary：

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械、特に、材料関連光学特性、例えば、光学要素の容積にわたって変化する屈折率又は複屈折性を有する屈折光学要素を有する投影対物器械を提供する。【解決手段】1.6よりも大きい屈折率を有する高屈折率屈折光学要素(L3)を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械。この要素(L3)は、ある一定の容積、及びこの容積にわたって変化する材料関連光学特性を有する。この光学特性の変化は、対物器械の収差を引き起こす。一実施形態では、少なくとも4つの光学面が設けられ、これらの光学面は、屈折光学要素の容積と光学的に共役である少なくとも1つの容積(L3’)内に配列される。各光学面は、少なくとも1つの補正手段、例えば、局所的に変化する特性を有する表面変形又は複屈折層を含み、これらの補正手段は、光学特性の変化によって引き起こされる収差を少なくとも部分的に補正する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械であって、 a)193nmの波長で1.6よりも大きい屈折率と、容積と、該容積にわたって変化する材料関連光学特性とを有し、該光学特性の変動が収差を引き起こす高屈折率屈折光学要素、及び b)前記屈折光学要素の前記容積と光学的に共役である少なくとも1つの容積内に配列され、該光学特性の前記変動によって引き起こされる前記収差を少なくとも部分的に補正する少なくとも1つの補正手段を各表面が含む少なくとも4つの光学面、を含むことを特徴とする対物器械。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G02B 1/00 , G02B 13/14 , G02B 21/00

FI (6)：

H01L21/30 516A , H01L21/30 515D , G03F7/20 521 , G02B1/00 , G02B13/14 , G02B21/00

F-Term (15)：

2H052AB02 , 2H087KA21 , 2H087NA01 , 2H087NA04 , 2H087RA28 , 2H087RA43 , 2H087UA02 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CB01 , 5F046CB12 , 5F046CB19 , 5F046CB25 , 5F046DA01 , 5F046DA13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

米国特許仮出願出願番号第60/814、385号
WO2005/121899A1
米国特許出願出願番号第11/570、263号

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Cited by examiner (9)

偏光補償器を有する光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-034111 Applicant：カール・ツアイス・スティフツング
マイクロリソグラフィーの投射露光装置、光学システム、マイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法、およびマイクロリソグラフィーによる構造化方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-589877 Applicant：カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー
投影光学装置の調整方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-009687 Applicant：株式会社ニコン

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