Pat
J-GLOBAL ID:200903092210446203
欠陥検出装置および欠陥検出方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松阪 正弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004283122
Publication number (International publication number):2006098163
Application date: Sep. 29, 2004
Publication date: Apr. 13, 2006
Summary:
【課題】検査領域に応じて欠陥を効率よく検出する。【解決手段】欠陥検出装置1は、基板9を撮像して多階調の被検査画像を取得する撮像部3を備え、被検査画像の各画素値は欠陥検出部43へと順次出力される。欠陥検出部43では、被検査画像と参照画像とを比較することにより、予め定められた複数の検査領域に含まれる欠陥の領域を示す欠陥領域画像が生成され、欠陥領域画像メモリ44に記憶される。コンピュータ5では、欠陥領域画像中の各欠陥の面積および重心位置が求められることにより、各欠陥が属する検査領域が特定され、欠陥の面積に関して検査領域毎に設定される欠陥判定条件に基づいて欠陥が限定される。検査領域に応じて異なる面積に関する欠陥判定条件を用いることにより、欠陥を効率よく検出することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出装置であって、
基板を撮像して多階調の被検査画像を取得する撮像部と、
被検査画像において、予め設定された複数の検査領域に含まれる欠陥を検出する欠陥検出手段と、
欠陥の面積または形状に関して検査領域毎に設定される欠陥判定条件に基づいて、前記欠陥検出手段にて検出された欠陥を実質的に限定する欠陥限定手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検出装置。
IPC (3):
G01N 21/956
, G01B 11/30
, H01L 21/66
FI (3):
G01N21/956 A
, G01B11/30 A
, H01L21/66 J
F-Term (39):
2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065CC01
, 2F065CC19
, 2F065FF41
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065PP12
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ21
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ33
, 2F065QQ36
, 2F065QQ47
, 2F065RR05
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EA08
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051ED01
, 2G051ED08
, 2G051ED21
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA04
, 4M106BA20
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB15
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
チップのパターン検査装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294215
Applicant:株式会社日立製作所
Cited by examiner (8)
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