吹き付け加工法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石井陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998120078
Publication number (International publication number)：1999300615
Application date： Apr. 14, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】吹き返しによる素子外形面の異常摩耗(痩せ)を防止し、加工状態を安定させ、均質な素子形状を得ることのできる吹き付け加工法を提供する。【解決手段】本発明は、被加工物の被加工表面に所定の素子形状の主マスクパターンを設け、マスクされていない被加工物の部分を、吹き付け媒体の吹き付けにより除去し、所定形状の素子を形成する吹き付け加工法において、前記吹き付け媒体の吹き返し防止用の副マスクパターンを、前記主マスクパターンの外周に間隔を隔てて設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被加工物の被加工表面に所定の素子形状の主マスクパターンを設け、マスクされていない被加工物の部分を、吹き付け媒体の吹き付けにより除去し、所定形状の素子を形成する吹き付け加工法において、前記吹き付け媒体の吹き返し防止用の副マスクパターンを、前記主マスクパターンの外周に間隔を隔てて設けたことを特徴とする吹き付け加工法。

IPC (4)：

B24C 1/04 , H01L 21/304 601 , H01L 41/09 , H01L 41/22

FI (4)：

B24C 1/04 C , H01L 21/304 601 S , H01L 41/08 C , H01L 41/22 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-045816 Applicant：沖電気工業株式会社
微粒子噴射加工方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-353310 Applicant：ソニー株式会社
厚膜パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-173583 Applicant：大日本印刷株式会社

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