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J-GLOBAL ID:200903092364217487
吹き付け加工法
Inventor:
,
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998120078
Publication number (International publication number):1999300615
Application date: Apr. 14, 1998
Publication date: Nov. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 吹き返しによる素子外形面の異常摩耗(痩せ)を防止し、加工状態を安定させ、均質な素子形状を得ることのできる吹き付け加工法を提供する。【解決手段】 本発明は、被加工物の被加工表面に所定の素子形状の主マスクパターンを設け、マスクされていない被加工物の部分を、吹き付け媒体の吹き付けにより除去し、所定形状の素子を形成する吹き付け加工法において、前記吹き付け媒体の吹き返し防止用の副マスクパターンを、前記主マスクパターンの外周に間隔を隔てて設けたことを特徴とする。
Claim (excerpt):
被加工物の被加工表面に所定の素子形状の主マスクパターンを設け、マスクされていない被加工物の部分を、吹き付け媒体の吹き付けにより除去し、所定形状の素子を形成する吹き付け加工法において、前記吹き付け媒体の吹き返し防止用の副マスクパターンを、前記主マスクパターンの外周に間隔を隔てて設けたことを特徴とする吹き付け加工法。
IPC (4):
B24C 1/04
, H01L 21/304 601
, H01L 41/09
, H01L 41/22
FI (4):
B24C 1/04 C
, H01L 21/304 601 S
, H01L 41/08 C
, H01L 41/22 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-045816
Applicant:沖電気工業株式会社
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微粒子噴射加工方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-353310
Applicant:ソニー株式会社
-
厚膜パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-173583
Applicant:大日本印刷株式会社
-
電鋳マスクを用いた噴射加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-295250
Applicant:シチズン時計株式会社
-
圧電体の加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-125143
Applicant:ソニー株式会社
-
被加工物の曲面加工方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-210217
Applicant:ソニー株式会社
-
特開平4-210375
-
パウダービームエッチングの方法及びこの方法を用いて加工したポリゴンミラー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-101408
Applicant:ソニー株式会社
-
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-206963
Applicant:大日本印刷株式会社
-
太陽電池の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-227720
Applicant:シャープ株式会社
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