マイクロチャネル装置内の触媒、及びそれを用いた反応

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：倉内基弘 , 風間弘志 , 遠藤朱砂 , 吉田匠 , 中島拓
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004546906
Publication number (International publication number)：2006505387
Application date： Oct. 17, 2003
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：

本発明は新しいマイクロリアクターシステム、触媒、及び化学的プロセスを提供する。又、製造方法、新規な触媒及び反応装置も提供する。

Claim (excerpt)：

下記ステップを有する反応実施方法: 1以上の反応物をマイクロチャネル入口を通してマイクロチャネル中へ流入させるステップ;但し、上記マイクロチャネルは:マイクロチャネルの断面を実質的に占める段階的触媒、入口近くはマイクロチャネル内のどこよりも低い濃度の触媒的活性材料を有する段階的触媒、及び、マイクロチャネルの壁近くはマイクロチャネルの中心近くの触媒中の触媒的活性材料の濃度よりも高い濃度の触媒中の触媒的活性材料を有する段階的触媒の群から選ばれた触媒を備える; 1以上の反応物をマイクロチャネル中で段階的触媒の存在下で反応させるステップ;但し、上記段階的触媒は、1以上の反応物が、その触媒の別の領域中よりも触媒の一部の領域中でより高い濃度の触媒的活性材料へ曝されるような触媒的活性材料の分布を有する;並びに 1以上の生成物を形成するステップ。

IPC (5)：

B01J 19/00 , B01F 5/00 , B81B 1/00 , F28C 3/08 , F28F 3/08

FI (6)：

B01J19/00 321 , B01F5/00 D , B01F5/00 F , B81B1/00 , F28C3/08 Z , F28F3/08 301Z

F-Term (14)：

4G035AB37 , 4G035AB38 , 4G035AC01 , 4G035AC08 , 4G035AC11 , 4G075AA39 , 4G075BA10 , 4G075CA01 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC11 , 4G075EE03 , 4G075FA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

米国特許第5248251号明細書

Cited by examiner (6)

温度制御付きのマイクロチャンネル反応器
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-576100 Applicant：バッテル・メモリアル・インスティチュート
単段階プロセスチャネル内における平衡制限的化学反応を行うプロセス
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-529213 Applicant：ヴェロシス,インク.
変化する断面を有する反応装置、その製造方法および局所的接触時間を変化させて反応を行う方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-506947 Applicant：バッテルメモリアルインスティチュート

Show all

Return to Previous Page