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J-GLOBAL ID：200903093461692374

処理装置およびそれに用いられる耐食性部材

Inventor：
大槻 林

About 大槻 林


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000373973
Publication number (International publication number)：2001226773
Application date： Dec. 08, 2000
Publication date： Aug. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】 処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供すること。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材を提供すること。【解決手段】 被処理基板であるウエハWを収容するチャンバー11と、チャンバーの11上方に設けられたベルジャー12と、ベルジャー12内に誘導電磁界を形成するためのアンテナ部材としてのコイル65と、コイル65に高周波電力を印加する高周波電源66と、処理ガスを供給するガス供給機構40とを具備し、ベルジャー12内に形成された誘導電磁界によりプラズマを形成してウエハWを処理する処理装置において、ベルジャー12は、その内壁が周期律表第3a族元素化合物を含む膜14からなる。
Claim (excerpt)：
被処理基板を収容する処理容器と、前記処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構とを具備する処理装置であって、前記処理容器は、その内壁が周期律表第3a族元素化合物を含む膜からなることを特徴とする処理装置。
IPC (8)：
C23C 16/44 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  C23C 4/10 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (10)：
C23C 16/44 J ,  B01J 19/00 K ,  B01J 19/08 H ,  C23C 4/10 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/302 N
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 耐食性部材
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-201566   Applicant：京セラ株式会社
  • 耐食性複合部材
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-207161   Applicant：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社
  • 耐食性部材
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-328449   Applicant：京セラ株式会社
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