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J-GLOBAL ID：200903093474117948

静電場処理装置

Inventor：
伊東 昭典

About 伊東 昭典


Applicant, Patent owner：
エル・エフ・ラボラトリー株式会社

About エル・エフ・ラボラトリー株式会社


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998154779
Publication number (International publication number)：1999346735
Application date： Jun. 03, 1998
Publication date： Dec. 21, 1999
Summary：
【要約】【課題】 遠赤外線効果、光触媒効果及び超音波効果を著しく増大することを目的とする。【解決手段】 静電場雰囲気内で、遠赤外線を放射したり、光触媒反応を起こさせたり、超音波を放射する。
Claim (excerpt)：
被処理体を電気的に絶縁状態に設置し、高電圧が印加された電極を介して被処理体を電場処理するための静電場処理装置において、前記静電場処理装置に遠赤外線放射体光触媒及び超音波のうち、少なくとも1つのものを組み合わせ適用したことを特徴とする静電場処理装置。
IPC (6)：
A23L 3/32 ,  A23L 3/36 ,  A23L 3/40 ,  A47J 37/12 ,  F25D 23/00 302 ,  F25D 23/00 305
FI (6)：
A23L 3/32 ,  A23L 3/36 Z ,  A23L 3/40 A ,  A47J 37/12 ,  F25D 23/00 302 M ,  F25D 23/00 305 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 特開平2-309169
  • 絹素材と光半導体の複合材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-133467   Applicant：株式会社信州セラミックス, 有限会社シルテック, 小林製袋産業株式会社
  • 冷蔵庫
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-306414   Applicant：松下冷機株式会社
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