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J-GLOBAL ID：200903094020166940

フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク

Inventor： 金子 英雄 ,  稲月 判臣 ,  塚本 哲史 ,  茂木 均之
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (3)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003013162
Publication number (International publication number)：2004226593
Application date： Jan. 22, 2003
Publication date： Aug. 12, 2004
Summary：

【解決手段】透明基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクであって、膜による基板の反りが0.5μm以下であることを特徴とするフォトマスクブランク。【効果】本発明によれば、反りが小さく、酸やアルカリに対する耐薬品性が高い高品質なフォトマスクブランク及びフォトマスクが得られる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

透明基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクであって、膜による基板の反りが0.5μm以下であることを特徴とするフォトマスクブランク。

IPC (2)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P

F-Term (3)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-329132   Applicant：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-243317   Applicant：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-060925   Applicant：ホーヤ株式会社
• 露光用マスクとその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-304186   Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (4)

• リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-329132   Applicant：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-243317   Applicant：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-060925   Applicant：ホーヤ株式会社
• 露光用マスクとその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-304186   Applicant：株式会社東芝