Pat
J-GLOBAL ID：200903095019986299

固体撮像素子及びその製造方法

Inventor：
太田 一生

About 太田 一生


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 野田 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001021171
Publication number (International publication number)：2002231923
Application date： Jan. 30, 2001
Publication date： Aug. 16, 2002
Summary：
【要約】【課題】 電極膜が単層の領域と2層の領域とを含む層構造において、その上層の層内レンズの適正な曲率を得る。【解決手段】 フォトセンサや転送レジスタが形成された半導体基板110上に2層の電極膜114、116を形成し、電極膜116が単層で配置された領域には高さ調整用の補助膜122を形成する。この補助膜122により、2層の電極膜114、116が重なり合った部分と単層で配置された部分の段差のばらつきを相殺する。そして、その上層に、遮光膜118を形成し、その上層に層内レンズ120を形成する。層内レンズ120をBPSG等のリフロー法で形成する場合に、全領域にわたってBPSG等の均一な流動性を得ることができ、均等で適正な曲率で形成できる。
Claim (excerpt)：
複数のフォトセンサと転送レジスタとを形成した半導体基板上に複数層の電極膜を形成し、その上層に遮光膜及び層内レンズを形成した固体撮像素子において、前記複数層の電極膜のうち電極膜が単層で配置された領域に高さ調整用の補助膜を設けた、ことを特徴とする固体撮像素子。
IPC (4)：
H01L 27/148 ,  H01L 27/14 ,  H01L 31/02 ,  H04N 5/335
FI (4)：
H04N 5/335 U ,  H01L 27/14 B ,  H01L 27/14 D ,  H01L 31/02 B
F-Term (17)：
4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CA02 ,  4M118FA06 ,  4M118GB14 ,  4M118GD04 ,  4M118GD08 ,  5C024CY47 ,  5C024GX01 ,  5F088BA10 ,  5F088BB10 ,  5F088DA17 ,  5F088DA20 ,  5F088EA04 ,  5F088HA10 ,  5F088HA20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM