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J-GLOBAL ID：200903095491943978

電子ビーム露光装置

Inventor：
井村 了

About 井村 了


Applicant, Patent owner：
東芝機械株式会社

About 東芝機械株式会社


Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003195895
Publication number (International publication number)：2005032963
Application date： Jul. 11, 2003
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：
【課題】電子ビーム露光装置において、被処理基板の表面で散乱された電子による基板周縁部の帯電を防止することによって、パターンの描画精度を高める。【解決手段】帯電防止枠5は、ガラス基板1の周縁部を上方から覆うように配置され、ガラス基板1の表面で散乱された電子を捕捉する。帯電防止枠5の下側には接触子6が取り付けられ、この接触子6をガラス基板1の表面に接触させることにより、ガラス基板1と帯電防止枠5を電気的に導通させる。帯電防止枠5は、アース配線9を介してアースに接続される。好ましくは、帯電防止枠5の支持機構4を、帯電防止枠5を下側からバネ42を介して支持するように構成し、接触子6を介してガラス基板1に作用する荷重を軽減する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被処理基板の周縁部を上方から覆うように配置され、被処理基板の表面で散乱された電子を捕捉する帯電防止枠と、 帯電防止枠の下側に取り付けられ、被処理基板の表面と接触することによって被処理基板の表面と帯電防止枠を電気的に導通させる接触子と、 帯電防止枠をアースに接続するアース配線と、 を備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (4)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305
FI (4)：
H01L21/30 541L ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/20 H ,  H01J37/305 B
F-Term (9)：
5C001AA01 ,  5C001CC06 ,  5C034BB06 ,  5F056CC04 ,  5F056DA23 ,  5F056EA14 ,  5F056EA15 ,  5F056EA18 ,  5F056FA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • 特開平1-117031
  • 特開平1-117031
  • マスクの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-154865   Applicant：日本電気株式会社
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