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J-GLOBAL ID：200903095955402355

電子線ネガ型レジスト組成物

Inventor： 大森 克実 ,  石川 清 ,  羽田 英夫 ,  山崎 浩幸 ,  菅田 祥樹 ,  駒野 博司
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997162345
Publication number (International publication number)：1999015158
Application date： Jun. 19, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】 コントラストや解像性がよく、かつ高感度を有するとともに、優れた形状のレジストパターンを与える電子線ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)一般式(I)及び(II)【化1】(R1は芳香族性基、R2は低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基、Xは二価又は三価の炭化水素基、R3は置換基を有する又は有しない炭化水素基、nは2又は3)で表わされるオキシムスルホネート化合物の中から選ばれた少なくとも1種と、(C)酸架橋性物質とを含有した電子線ネガ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)(a)一般式【化1】(式中のR1は芳香族性基、R2は低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基である)及び(b)一般式【化2】(式中のXは二価又は三価の炭化水素基、R3は炭化水素基又は置換基を有する炭化水素基、nは2又は3である)で表わされるオキシムスルホネート化合物の中から選ばれた少なくとも1種と、(C)酸架橋性物質とを含有することを特徴とする電子線ネガ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 541 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平2-154266
  
• 特開平2-161444
  
• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-018008   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-011580   Applicant：東京応化工業株式会社
• ネガ型化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-329785   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅型ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-347975   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅型ネガ型レジスト組成物およびネガ型レジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-289241   Applicant：東京応化工業株式会社
• 特開昭60-065072