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J-GLOBAL ID:200903096156595325

水素ガス発生装置及び水素ガス発生方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 河野 登夫 ,  河野 英仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004372041
Publication number (International publication number):2005206459
Application date: Dec. 22, 2004
Publication date: Aug. 04, 2005
Summary:
【課題】 簡単な設備と簡単な制御で容易に高圧の水素ガスを所望の発生量で発生することができる水素ガス発生装置及び水素ガス発生方法を提供する。 【解決手段】 密閉可能な反応容器1又は2へ反応材料としての金属を導入し、この反応容器1又は2に水供給ポンプ5aにより水を供給し、反応容器1又は2の内圧を所定の圧力にまで高める。高圧状態の反応容器1へ、アルカリ水溶液供給ポンプ6aによりアルカリ水溶液を供給し、高圧反応場の状態での金属とアルカリ水溶液との反応により水素ガスを発生させる。発生した高圧の水素ガスは冷却器10、気液分離器11を介して蓄圧器14へ回収される。水素ガスの圧力は圧力調整器8(圧力調整弁8b)、圧力調整器13(圧力調整弁13b)により所定の圧力に調整される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
金属とアルカリ水溶液との反応により水素ガスを発生させる水素ガス発生装置において、 金属を導入されて密閉可能な反応容器と、 水を前記反応容器へ供給するための水供給ポンプと、 アルカリ水溶液を前記反応容器へ供給するためのアルカリ水溶液供給ポンプと、 前記金属と前記アルカリ水溶液との反応により発生する水素ガスを導出するため前記反応容器に一側を接続された導出管と、 該導出管の他側に接続され、前記水素ガスと共に導出される水蒸気を分離する気液分離器と を備えることを特徴とする水素ガス発生装置。
IPC (1):
C01B3/08
FI (1):
C01B3/08 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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