メッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物およびメッキ造形物の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000090783
Publication number (International publication number)：2001281862
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Oct. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】バンプあるいは配線等の膜厚のメッキ造形物を精度よく形成でき、かつ感度、解像度等にも優れたメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物および当該組成物を用いるメッキ造形物の製造方法を提供する。【解決手段】 (A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する重合体および(B)放射線の照射により酸を発生する成分を含有するメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物。この組成物は、ポジ型感放射線性樹脂膜としても使用される。メッキ造形物は、基板上に前記組成物または樹脂膜から形成されたパターンを鋳型として電解メッキする工程を経て製造される。

Claim (excerpt)：

(A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する重合体および(B)放射線の照射により酸を発生する成分を含有するメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (13)：

G03F 7/039 601 , C08J 5/18 CEY , C08L 33/08 , C08L 33/10 , C08L101/02 , C25D 5/02 , C25D 7/12 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 512 , G03F 7/11 503 , G03F 7/38 511 , G03F 7/40 521 , G03F 7/42

FI (13)：

G03F 7/039 601 , C08J 5/18 CEY , C08L 33/08 , C08L 33/10 , C08L101/02 , C25D 5/02 E , C25D 7/12 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 512 , G03F 7/11 503 , G03F 7/38 511 , G03F 7/40 521 , G03F 7/42

F-Term (76)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB11 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025DA30 , 2H025EA08 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA39 , 2H025FA43 , 2H025FA48 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096BA20 , 2H096CA05 , 2H096CA16 , 2H096EA02 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096HA27 , 2H096JA04 , 2H096LA02 , 2H096LA16 , 4F071AA22X , 4F071AA33 , 4F071AA33X , 4F071AA76X , 4F071AC03 , 4F071AC12 , 4F071AC13 , 4F071AC14 , 4F071AE03 , 4F071AH19 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071BB12 , 4F071BC02 , 4J002BC081 , 4J002BC091 , 4J002BC121 , 4J002BG011 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BG101 , 4J002BJ001 , 4J002BL011 , 4J002BL021 , 4J002BQ001 , 4J002EB096 , 4J002EB126 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV236 , 4J002EV246 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002EW056 , 4J002EY016 , 4J002FD156 , 4J002GP03 , 4K024AA11 , 4K024AB01 , 4K024AB02 , 4K024AB08 , 4K024AB15 , 4K024BB12 , 4K024FA06 , 4K024GA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

感光性組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-520188 Applicant：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
感光性組成物およびこれを用いたパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-110706 Applicant：株式会社東芝
レジスト及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-120050 Applicant：富士通株式会社

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