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J-GLOBAL ID：200903096940933164

圧電体薄膜素子、圧電体薄膜素子を製造するための原盤、インクジェット式記録ヘッド及びこれらの製造方法

Inventor：
西川 尚男

About 西川 尚男


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998171887
Publication number (International publication number)：2000079686
Application date： Jun. 18, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 簡易な方法でインクジェット式記録ヘッドを安価に提供する。【解決手段】 本発明は、インクジェット式記録ヘッドの圧電体薄膜素子をいわゆる転写法で形成するものである。圧電体薄膜素子5を製造する工程は、圧電体薄膜素子5の形状に対応した凹部82を備える原盤8を製造する工程と(図1(a))、原盤8の凹部82内に上部電極4を形成する工程と(図1(b))、上部電極4上に圧電体膜3を形成する工程と(図1(c))、少なくとも圧電体膜3を覆うように振動板2を形成し、加圧室基板となる基板1を接合する工程と(図1(d))、圧電体薄膜素子5を原盤8から剥離する工程(図1(e))と、基板1をエッチングして加圧室11を形成する工程(図1(f))と、ノズルプレート6を接合する工程(図1(g))と、を備える。
Claim (excerpt)：
上部電極と下部電極の間に挟まれる圧電体膜を備える圧電体薄膜素子の製造方法において、前記圧電体薄膜素子の形状に合わせた凹部が形成されている原盤で前記圧電体薄膜素子を転写形成する、圧電体薄膜素子の製造方法。
IPC (5)：
B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22
FI (4)：
B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z
F-Term (16)：
2C057AF69 ,  2C057AF93 ,  2C057AG01 ,  2C057AG12 ,  2C057AG44 ,  2C057AG55 ,  2C057AP02 ,  2C057AP23 ,  2C057AP25 ,  2C057AP52 ,  2C057AP53 ,  2C057AP54 ,  2C057AP55 ,  2C057AP57 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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