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J-GLOBAL ID：200903097888810748

フォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルとその製造法

Inventor：
新井 隆

About 新井 隆

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水谷 能久

About 水谷 能久

, 
糸数 輝雄

About 糸数 輝雄


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003121252
Publication number (International publication number)：2004323704
Application date： Apr. 25, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：
【課題】アルカリ現像の際に不溶物が生じないようなフォトレジスト用重合体を得ることのできる非酸脱離性のフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルを提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルは、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する酸脱離性基を有しないフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルであって、不純物としての該(メタ)アクリル酸エステルのオリゴマーの含有量が2000重量ppm以下であることを特徴とする。該(メタ)アクリル酸エステルには、ラクトン環含有基、又は極性基を有する脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルが含まれる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する酸脱離性基を有しないフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルであって、不純物としての該(メタ)アクリル酸エステルのオリゴマーの含有量が2000重量ppm以下であることを特徴とするフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステル。
IPC (6)：
C08F20/26 ,  C07C67/08 ,  C07C69/013 ,  C07C69/54 ,  C07D307/93 ,  G03F7/039
FI (6)：
C08F20/26 ,  C07C67/08 ,  C07C69/013 C ,  C07C69/54 B ,  C07D307/93 ,  G03F7/039 601
F-Term (41)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4C037UA04 ,  4C037UA07 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AC48 ,  4H006AD41 ,  4H006BA66 ,  4H006BC10 ,  4H006BJ30 ,  4H006BN20 ,  4H006KA06 ,  4H006KA14 ,  4H006KC20 ,  4H039CA66 ,  4H039CL25 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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