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J-GLOBAL ID：200902126101545844   Reference number：00A0692987

Advanced Materials for 193-nm Resists.

193-nmレジスト用の先端材料

Author (9)： SHIDA N (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  USHIROGOUCHI T (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  ASAKAWA K (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  OKINO T (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  SAITO S (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  TAKARAGI A (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  TSUTSUMI K (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  INOUE K (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  NAKANO T (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 13  Issue： 4  Page： 601-606  Publication year： 2000 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *polyacrylate ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Copolymerization  (CG04030D)

Substance index (3)： N-Hydroxyphthalimide ,  1-(Acryloyloxy)-3-carboxy-7-hydroxybicyclo[3.3.1]nonanelactone ,  Acrylic acid 1-methyl-1-(1-adamantyl)ethyl ester

Reference (10)：

• 1). K. Maeda et al., Proc. of SPIE, 2724, 377 (1996).
• 2). K. Nozaki, K. Watanabe, E. Yano, A. Kotachi, S. Takechi, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol. 9, 509 (1996).
• 3). K. Nakano, K. Maeda, S. Isawa, J. Yano, Y. Ogawa, and E. Hasegawa, Proc. of SPIE 2195 194 (1994).
• 4). J.-C. Jung et al., Proc. of SPIE, 3333, 11 (1998).
• 5). I.L. Rushkin et al., Proc. of SPIE, 36787, 44 (1999).

Terms in the title (2)： レジスト ,  先端材料