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J-GLOBAL ID：200903079999633928

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
羽田 英夫

About 羽田 英夫

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藤村 悟史

About 藤村 悟史

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佐々木 一仁

About 佐々木 一仁

, 
岩井 武

About 岩井 武


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000369225
Publication number (International publication number)：2002169292
Application date： Dec. 04, 2000
Publication date： Jun. 14, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーのような200nm以下の波長の光源を用いたときに、優れた感度及び解像度を示し、かつ耐ドライエッチング性及び基板との密着性が良好な上に、ライン・スリミングの小さい微細なレジストパターンを与えうる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)が(a1)アクリル酸又はメタクリル酸の2-アルキル-2-アダマンチルエステルから誘導された構成単位、(a2)酸解離性の2-オキソオキサペンチル基をもつアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導された構成単位、及び(a3)アクリル酸又はメタクリル酸の1-ヒドロキシアダマンチルエステルから誘導された構成単位からなる共重合体とする。
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)が(a1)アクリル酸又はメタクリル酸の2-アルキル-2-アダマンチルエステルから誘導された構成単位、(a2)酸解離性の2-オキソオキサペンチル基をもつアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導された構成単位、及び(a3)アクリル酸又はメタクリル酸の1-ヒドロキシアダマンチルエステルから誘導された構成単位からなる共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/26 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/26 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (32)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW046 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (21)
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