オゾン処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：長南満輝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001002970
Publication number (International publication number)：2002028462
Application date： Jan. 10, 2001
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】原料水にオゾンを効率良く溶解させることができると共に、生成したオゾン水のオゾンガス濃度を容易に且つ適正にコントロールすることができるオゾン処理装置を提供すること。【解決手段】原料水とオゾンガスとを気体のみを通し液体の透過を阻止するオゾンガス透過膜22で隔離せしめ、前記オゾンガス透過膜が非多孔性中空管状に形成され、該オゾンガス透過膜を気密性を備えた収容容器21内に設置してオゾン溶解モジュール2を構成し、前記収容容器内にオゾンガスを充満又は流通させオゾンガス透過膜内に原料水を流通させることによりオゾンガス透過膜を通してオゾンガスを原料水に溶け込ますようにした。

Claim (excerpt)：

原料水とオゾンガスとをオゾンガス透過膜で隔離せしめ、上記オゾンガスを上記原料水に上記オゾンガス透過膜を通して溶け込ますようにしたオゾン処理装置であって、前記オゾンガス透過膜が気体のみを通し液体の透過を阻止する非多孔性中空管状に形成され、該オゾンガス透過膜を気密性を備えた収容容器内に設置してオゾン溶解モジュールを構成し、前記収容容器内にオゾンガスを充満又は流通させ前記オゾンガス透過膜内に原料水を流通させるようにした事を特徴するオゾン処理装置。

IPC (15)：

B01F 1/00 , B01D 19/00 , B01D 19/00 101 , B01D 61/00 , B01D 71/32 , B01D 71/70 , C02F 1/20 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 550 , C02F 1/50 560 , C02F 1/78 ZAB , C01B 13/10

FI (15)：

B01F 1/00 A , B01D 19/00 H , B01D 19/00 101 , B01D 61/00 , B01D 71/32 , B01D 71/70 , C02F 1/20 A , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 P , C02F 1/50 531 R , C02F 1/50 540 B , C02F 1/50 550 D , C02F 1/50 560 E , C02F 1/78 ZAB , C01B 13/10 D

F-Term (31)：

4D006KA12 , 4D006KB17 , 4D006KE13Q , 4D006MA02 , 4D006MA03 , 4D006MA31 , 4D006MC28 , 4D006MC30 , 4D006MC65 , 4D006PB06 , 4D006PB70 , 4D011AA16 , 4D011AA17 , 4D011AD06 , 4D037AA02 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BB01 , 4D037BB02 , 4D037BB07 , 4D037CA03 , 4D050AA13 , 4D050AB04 , 4D050AB06 , 4D050BB02 , 4D050BD04 , 4D050BD08 , 4G035AA01 , 4G035AE01 , 4G035AE13 , 4G042CE01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

スパイラル型膜モジュール
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-092028 Applicant：日東電工株式会社
特開平4-004089
特開平4-004089

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