層間絶縁膜用感光性組成物及びパターン化層間絶縁膜の形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000297107
Publication number (International publication number)：2002107937
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】層間絶縁膜用感光性組成物の露光パターンの解像度を高めること。【解決手段】本発明による感光性組成物は、一般式:-〔SiR1 (NR2 )1.5 〕-を基本構成単位とし、さらに一般式:-〔SiR1 2 NR2 〕-及び/又は〔SiR1 3 (NR2 )0.5 〕-で表される他の構成単位を前記基本構成単位に対して0.1モル%〜100モル%含有する数平均分子量100〜100,000の変性ポリシルセスキアザン(前記式中、R1 、R2 の定義は明細書に記載)と、光酸発生剤と、形状安定化剤として水溶性化合物とを含んで成る。特に好適な水溶性化合物は、2-ニトロアニリン、3-ニトロアニリン、4-ニトロアニリン、2-ニトロ-4-アミノトルエン、炭酸プロピレン、炭酸エチレン及び水溶性アクリルポリマーである。

Claim (excerpt)：

一般式:-〔SiR1 (NR2 )1.5 〕-を基本構成単位とし、さらに一般式:-〔SiR1 2 NR2 〕-及び/又は〔SiR1 3 (NR2)0.5 〕-で表される他の構成単位を前記基本構成単位に対して0.1モル%〜100モル%含有する数平均分子量100〜100,000の変性ポリシルセスキアザン(前記式中、R1 は、各々独立に、炭素数1〜3のアルキル基又は置換もしくは無置換フェニル基を表し、R2 は、各々独立に、水素、炭素数1〜3のアルキル基又は置換もしくは無置換フェニル基を表す)と、光酸発生剤と、形状安定化剤として水溶性化合物とを含んで成る層間絶縁膜用感光性組成物。

IPC (12)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/62 , C08K 5/00 , C08L 83/16 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/075 511 , G03F 7/30 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , H01L 21/312 , H01L 21/768

FI (12)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/62 , C08K 5/00 , C08L 83/16 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/075 511 , G03F 7/30 , G03F 7/40 , H01L 21/312 C , H01L 21/30 502 R , H01L 21/90 Q

F-Term (49)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE08 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA41 , 2H025CB06 , 2H025CB32 , 2H025CB41 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025DA40 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096AA30 , 2H096BA11 , 2H096EA04 , 2H096GA01 , 2H096HA01 , 4J002CP211 , 4J002EE038 , 4J002EE058 , 4J002EH007 , 4J002EK006 , 4J002EL099 , 4J002EQ016 , 4J002ES007 , 4J002EU119 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002FD329 , 4J002GP03 , 4J035JA03 , 4J035LB16 , 5F033RR23 , 5F033RR27 , 5F033SS22 , 5F033XX03 , 5F058AC03 , 5F058AC06 , 5F058AC07 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

感光性ポリシラザン組成物及びパタ-ン化されたポリシラザン膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-283106 Applicant：東燃株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-104589 Applicant：信越化学工業株式会社
N-置換マレイミド単位を含む重合体、およびそれらの放射線感応性混合物における使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-024216 Applicant：アグファ-ゲーベルト・アクチエンゲゼルシヤフト

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Cited by examiner (6)

感光性ポリシラザン組成物及びパタ-ン化されたポリシラザン膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-283106 Applicant：東燃株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-104589 Applicant：信越化学工業株式会社
N-置換マレイミド単位を含む重合体、およびそれらの放射線感応性混合物における使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-024216 Applicant：アグファ-ゲーベルト・アクチエンゲゼルシヤフト

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