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J-GLOBAL ID：200903098360592591

洗浄水及びウエハの洗浄方法

Inventor： 青木 秀充 ,  富盛 浩昭
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001179081
Publication number (International publication number)：2002373879
Application date： Jun. 13, 2001
Publication date： Dec. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 ウエハ中央部におけるゲート酸化膜の破壊、パーティクルの集中並びにウエハ上に形成された配線及び電極等を構成する金属膜の溶出を防止することができるウエハの洗浄水及びウエハの洗浄方法を提供する。【解決手段】 ウエハ1を回転させながら、ウエハ1の表面にノズル2により還元水を噴射する。還元水は、水に1乃至2.5ppmの水素ガスを溶解し、少量の水酸化アンモニウムを添加した水溶液とする。還元水のpHは7.5乃至8.0、酸化還元電位は-0.6乃至-0.45V、比抵抗は1MΩ・cm以下とする。

Claim (excerpt)：

枚葉スピン方式のウエハのリンス工程にて前記ウエハを洗浄する洗浄水において、比抵抗が1MΩ・cm以下、pHが7.5乃至9であり、水酸化アンモニウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド又はコリンを含有し、還元性であることを特徴とする洗浄水。

IPC (3)：

H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644

FI (4)：

H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 644 A ,  H01L 21/304 647 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 洗浄水製造・供給システム及び製造・供給方法並びに洗浄システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-049491   Applicant：株式会社フロンテック
• 特開昭59-218731
  
• 機能水製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-202840   Applicant：オルガノ株式会社
• 基板洗浄方法および基板洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-119374   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• エッチング除去方法および装置と洗浄方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-068898   Applicant：日本電気株式会社
• 基板洗浄方法および基板洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-024103   Applicant：株式会社日立製作所