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J-GLOBAL ID：200903099228999433

反射防止組成物

Inventor：
ピーター・トレフォナス,ザサード

About ピーター・トレフォナス,ザサード

, 
マニュエル・ドカント

About マニュエル・ドカント

, 
エドワード・ケイ・パベルチェク

About エドワード・ケイ・パベルチェク


Applicant, Patent owner：
シップレーカンパニー エル エル シー

About シップレーカンパニー エル エル シー


Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001231972
Publication number (International publication number)：2002072489
Application date： Jul. 31, 2001
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：
【要約】【課題】露光している放射線の、基盤から上塗りされたフォトレジスト層への反射を減少させる組成物の提供。【解決手段】塩基性物質および架橋剤を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。
Claim (excerpt)：
塩基性物質および架橋剤を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。
IPC (7)：
G03F 7/11 503 ,  B32B 7/02 103 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/11 503 ,  B32B 7/02 103 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 574
F-Term (44)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025FA10 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01K ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA02B ,  4F100GB41 ,  4F100JA07B ,  4F100JB14C ,  4F100JN06B ,  4F100YY00B ,  4J038CC091 ,  4J038CG141 ,  4J038CG161 ,  4J038DA161 ,  4J038DA171 ,  4J038DL081 ,  4J038GA02 ,  4J038GA03 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038JC13 ,  4J038KA03 ,  4J038KA06 ,  4J038MA14 ,  4J038PA17 ,  4J038PA18 ,  5F046PA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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