光酸発生剤をしてなる反射防止コーティング組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐伯憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998061845
Publication number (International publication number)：1999133618
Application date： Feb. 06, 1998
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】フーチングまたはノッチングが軽減された垂直方向の輪郭を有するレジストレリーフ像を得るための反射防止被膜組成物、その組成物を含む基板およびその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の反射防止被膜組成物は、樹脂バインダ、酸発生剤または熱反応性酸発生剤、および光反応性酸発生剤からなる。樹脂バインダは、アントラセニル繰り返し単位から構成され、アミンベース材料等の架橋剤を含有することが好ましい。光反応性酸発生剤は、100〜300nmの紫外線の放射により露光されると酸を発生し、110〜175°Cの温度に1分間以上露光しても安定であることが好ましい。また、本発明のフォトレジスト層のレリーフ像は、i)上記反射防止組成物層を基板上に塗布し、ii)フォトレジスト組成物層をその上に塗布し、iii)レジスト層を露光して、反射防止組成物の光反応性酸発生剤から酸を発生させ、iv)レジスト層を現像することにより形成される。

Claim (excerpt)：

1)樹脂バインダ、2)酸発生剤または熱反応性酸発生剤、および3)光反応性酸発生剤化合物からなり、上層に被覆されるフォトレジスト組成物と共に使用される反射防止被膜組成物。

IPC (3)：

G03F 7/11 503 , C09D 5/00 , G03F 7/004 503

FI (3)：

G03F 7/11 503 , C09D 5/00 F , G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

感光性樹脂用下地材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-041022 Applicant：住友化学工業株式会社
レジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-226118 Applicant：株式会社東芝
特開平4-363017

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