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J-GLOBAL ID：200903099901195945

スルホン酸エステル化合物およびその用途

Inventor：
井上 博貴

About 井上 博貴

, 
富岡 淳

About 富岡 淳


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996290093
Publication number (International publication number)：1998147572
Application date： Oct. 31, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：
【要約】【課題】 酸の作用により開裂しうる保護基を有し、開裂後にアルカリ可溶性となる樹脂を含有するレジストの酸発生剤として用いた場合に、優れた効果を発揮する化合物を提供し、これを用いて諸性能に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 式(I)で示されるスルホン酸エステル化合物。式中、R1 は、それぞれ置換されていてもよいアルキレン、アルケニレンまたは環状炭化水素の2価残基を表し、R2 は置換されていてもよいシクロアルキルを表し、nは0〜6の整数を表すが、ただし、-(CH2)n-R2 がショウノウ残基であることはない。式(I)の化合物を酸発生剤として用い、酸の作用により開裂しうる保護基を有し、開裂後はアルカリ可溶性となる樹脂と配合して、ポジ型レジスト組成物が得られる。
Claim (excerpt)：
式(I)(式中、R1 は置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレンまたは置換されていてもよい環状炭化水素の2価残基を表し、R2 は置換されていてもよいシクロアルキルを表し、nは0〜6の整数を表すが、ただし、-(CH2)n-R2 がショウノウ残基であることはない)で示されるスルホン酸エステル化合物。
IPC (6)：
C07D207/46 ,  C07D209/48 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601
FI (6)：
C07D207/46 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  C07D209/48 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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