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J-GLOBAL ID：201002213613974160   Reference number：10A0685193

Evaluation of maskless electron beam direct writing with double character projection apertures

二重部分一括描画開口によるマスクレス電子ビーム直接描画の評価

Author (3)： MIDOH Y. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TERASAKA T. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAKAMAE K. (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7637  Page： 76370D.1-76370D.9  Publication year： 2010 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electron beam lithography ,  electron beam ,  circuit pattern generation ,  semiconductor process ,  benchmark
Semi thesaurus term： direct drawing ,  mask-less lithography ,  *部分一括描画

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 描画 ,  マスクレス ,  電子ビーム ,  直接描画 ,  評価