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J-GLOBAL ID：201002249802855630   Reference number：10A0361402

Evaluation of Thermoelectric Performance of Diamond Like Carbon Thin Films Prepared by RF Plasma CVD

RFプラズマCVD法により作製したDLC薄膜の熱電性能評価

Author (3)： NAKAMURA MASASHI (茨城大 工) ,  HARAGUCHI TADAO (茨城大 工) ,  UCHIYAMA SATOSHI (茨城大 大学院理工学研究科)
Material： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
Volume： 61  Issue： 4  Page： 325-329  Publication year： Apr. 01, 2010 
JST Material Number： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *DLC film ,  silicon compound ,  doping ,  P-type semiconductor ,  plasma CVD ,  *transport coefficient ,  thermoelectromotive force ,  *electrical resistivity ,  thermal conductivity ,  performance index ,  *Seebeck coefficient

JST classification (3)： Electric conduction in amorphous and liquid semiconductors  (BM03042G) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Reference (24)：

• 1) M. Ikenaga ; DLC Seimaku Gijutsu, p.3 (Nikkan Kougyo Shinbun, Ltd., 2007).
• 2) M. Rusop, X. M. Tian, T. Kinugawa, T. Soga, T. Jimbo, M. Umeno ; Applied Surface Science, 252, 1693 (2005).
• 3) A. P. Mousinho, R. D Mansano ; Applied Surface Science, 254, 189 (2007).
• 4) J. Takahashi, T. Hando, H. Kinoshita ; Technical report of IEICE. SDM, 96 (344), p.73 (IEICE, 1996).
• 5) S. M. Mominuzzaman, H. Ebisu, T. Soga, T. Jimbo, M. Umeno ; Diamond and Related Materials, 10, 984 (2001).

Terms in the title (5)： RFプラズマ ,  CVD法 ,  作製 ,  DLC薄膜 ,  性能評価