質量分析用基板及びその製造方法並びに質量分析法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (5)：成瀬勝夫 , 中村智廣 , 佐野英一 , 鳥野正司 , 佐々木一也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008332164
Publication number (International publication number)：2010151727
Application date： Dec. 26, 2008
Publication date： Jul. 08, 2010
Summary：

【課題】レーザー脱離イオン化質量分析において効率良く分析対象の試料を脱離化及びイオン化処理でき、かつ、低分子量域において分解物等に由来する妨害ピークの発生の少ない質量分析用基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】レーザー脱離イオン化質量分析において分析対象の試料を付着させる質量分析用基板であって、基材上に、Fe、Co及びCuからなる群から選ばれた金属の1種又は2種以上の金属酸化物を含んだ金属酸化物層を備えたことを特徴とする質量分析用基板であり、また、上記金属酸化物を溶剤に分散させた分散液を基材に塗布し、乾燥させて、金属酸化物を含んだ金属酸化物層を形成して質量分析用基板を得る。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザー脱離イオン化質量分析において分析対象の試料を付着させる質量分析用基板であって、基材上に、Fe、Co及びCuからなる群から選ばれた金属の1種又は2種以上の金属酸化物を含んだ金属酸化物層を備えたことを特徴とする質量分析用基板。

IPC (2)：

G01N 27/64 , G01N 27/62

FI (3)：

G01N27/64 B , G01N27/62 V , G01N27/62 F

F-Term (12)：

2G041CA01 , 2G041DA03 , 2G041DA04 , 2G041EA01 , 2G041EA11 , 2G041FA07 , 2G041FA08 , 2G041FA09 , 2G041FA12 , 2G041GA06 , 2G041JA07 , 2G041JA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

米国特許第6288390号公報
質量分析用基板、その製造方法および質量分析測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-290482 Applicant：キヤノン株式会社
米国特許第7122792号公報

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Cited by examiner (4)

LDIプレート、レーザー脱離イオン化質量分析装置、レーザー脱離イオン化質量分析方法及びLDIプレート製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-036658 Applicant：国立大学法人東京大学, 学校法人関西大学
レーザー脱離基材
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-532407 Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
質量分析用基板、その製造方法および質量分析測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-290482 Applicant：キヤノン株式会社

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